CVD真空气氛管式炉

所属单位：黑龙江省科学院高技术研究院

仪器设备中文名称：CVD真空气氛管式炉

规格型号：CVD（G)-09/50/1

生产厂家（品牌）：合肥日新高温技术有限公司

主要技术指标：

1、最高温度：1650℃             

2、使用温度：1000-1600℃        

3、控制精度：±1.5℃            

4、炉管尺寸：Φ90（外径）×1450mm 

5、最大功率：12Kw                

主要功能及应用范围：

本试验机广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。

仪器设备管理负责人：李岩