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CVD真空气氛管式炉
所属单位:黑龙江省科学院高技术研究院
仪器设备中文名称:CVD真空气氛管式炉
规格型号:CVD(G)-09/50/1
生产厂家(品牌):合肥日新高温技术有限公司
主要技术指标:
1、最高温度:1650℃
2、使用温度:1000-1600℃
3、控制精度:±1.5℃
4、炉管尺寸:Φ90(外径)×1450mm
5、最大功率:12Kw
主要功能及应用范围:
本试验机广泛适用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制,晶体硅基板镀膜,纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。
仪器设备管理负责人:李岩
联系电话:13845121989